艾锐孚(上海）新材料科技有限公司-华东地区化工原料与特种新材料代理供应商,住友化学 Sumitomo 半导体光刻胶材料华东地区经销商，原厂原包，以优越的品质，合理的价格以及完善的售前售后服务得到新老客户的大力支持和好评，公司致力于化工产品和特种新材料产业的前沿技术和销售，联合众多进口化工品牌为客户打造最为舒适的服务。
在半导体制造的光刻工艺中，i 线（365nm）光刻胶是成熟制程的核心材料，而住友化学 SUMIRESIST PFI-55凭借均衡的性能、极致的稳定性和广泛的适用性，成为全球用量最大、口碑最优的 i 线正性光刻胶，被誉为成熟制程的 “万能胶”
PFI-55 是住友化学 PFI 系列（酚醛树脂基 i 线正胶）的旗舰型号，属于无 PFAS（全氟烷基物质）环保配方，专为 0.5μm-1μm 成熟制程设计，兼顾高分辨率、高对比度与宽工艺窗口，是半导体、分立器件、PCB、功率器件等领域的 “通用标准品”
住友化学 Sumitomo PFI-55 性能优势：
1. 超高分辨率，图形精度拉满
基础分辨率：280nm 线宽 / 间距（L/S），膜厚 0.75μm；常规 450nm L/S 工艺下，膜厚可达 1.065μm，满足 0.35μm-1μm 制程的图形化需求。
对比度优异：感光区与非感光区过渡陡峭，侧壁垂直度高，图形保真度强，显著降低良率损耗。
2. 高感度 + 宽工艺窗口，量产稳定性强
感光灵敏度适中（适配常规 i 线曝光机），曝光能量宽容度大，对设备波动、环境温度 / 湿度变化不敏感，大幅降低量产管控难度。
成膜均匀性优：膜厚可控范围宽（0.7-2.0μm），适用于薄层至中厚层工艺，兼容多种基底（硅片、氧化硅、金属层等）。
3. 抗刻蚀性强，适配多元后道工艺
酚醛树脂基体搭配优化感光剂，抗等离子体刻蚀、抗离子注入能力突出，能在刻蚀 / 注入工序中有效保护衬底，减少图形畸变。
显影兼容性好：适配常规 TMAH 显影液，显影速度稳定，无残留、无针孔，降低缺陷率。
4. 环保合规 + 高纯度，适配高端制造
无 PFAS 配方，符合全球环保法规（如 REACH、RoHS），满足企业绿色生产需求。
金属离子含量控制在 ppb 级别，杂质极低，避免污染晶圆，适配功率器件、汽车电子等对纯度要求严苛的领域。
住友化学 PFI-55 作为 i 线光刻胶的标杆产品，以超高分辨率、宽工艺窗口、强抗刻蚀性、环保高纯度四大优势，完美适配 0.35μm-1μm 成熟制程的全场景需求，成为全球用量最大、应用最广的光刻胶型号。
艾锐孚(上海）新材料科技有限公司经销供应日本住友化学光刻胶和锂电池隔离膜PERVIOTSP：
一、i 线光刻胶（SUMIRESIST? 系列，PFI/PXi/NX/PFM 系列）
住友化学（Sumitomo）PFI-55 通用酚醛树脂基 i 线正胶，高对比度宽工艺窗口，用于 0.5μm-1μm 分立器件、PCB、成熟制程
住友化学（Sumitomo）PFI-27 高感度厚膜 i 线正胶，膜厚 3-4μm，用于功率器件、MEMS、传感器
住友化学（Sumitomo）PFI-241 厚膜 i 线正胶，膜厚 4-5μm，高宽比，用于封装凸块、电镀工艺
住友化学（Sumitomo）PFM-300 抗反射底涂专用 i 线光刻胶，与 BARC 适配，提升图形精度，用于 0.35μm-0.5μm 逻辑芯片
住友化学（Sumitomo）PXi 系列 化学放大型 i 线厚膜光刻胶，高分辨率低缺陷，用于先进封装 RDL、TSV 图形化
住友化学（Sumitomo）NX 系列 i 线负性光刻胶，高对比度抗刻蚀，用于接触孔、通孔、存储器件隔离层
二、KrF（248nm）光刻胶（PEK/NEK 系列）
住友化学（Sumitomo）PEK 系列 通用 KrF 正性光刻胶，工艺稳定良率高，用于 130nm-180nm 逻辑、DRAM、Flash 量产
住友化学（Sumitomo）PEK-1000 标准 KrF 正胶，130nm 节点通用，用于通用逻辑与模拟芯片
住友化学（Sumitomo）PEK-2000 高分辨率 KrF 正胶，90-110nm 节点，线宽均匀性优，用于先进逻辑、低功耗芯片
住友化学（Sumitomo）PEK-3000 低 LER KrF 光刻胶，高密度图形优化，用于 90nm 存储、精细线路
住友化学（Sumitomo）NEK 系列 KrF 负性光刻胶，高对比度抗刻蚀，用于接触孔、通孔、存储器件特殊结构
三、ArF（193nm）光刻胶（PAR 系列，干式 / 浸没式）
住友化学（Sumitomo）PAR 系列 通用 ArF 干式 / 浸没式光刻胶，工艺窗口宽，用于 65-120nm 逻辑、CIS、成熟制程
住友化学（Sumitomo）PAR-1000 ArF 干式正胶，90-120nm 通用，对标 JSR AR2772JN，用于通用逻辑与 CIS
住友化学（Sumitomo）PAR-2000 高分辨率 ArF 干式胶，65-80nm 节点，用于关键层图形化
住友化学（Sumitomo）PAR-i3000 ArF 浸没式正胶，28-65nm 节点，高分辨率低 LER，用于先进逻辑、高端 CIS
住友化学（Sumitomo）PAR-i4000 高 NA ArF 浸没式胶，14-28nm 节点，RLS 平衡优，用于移动芯片、AI 核心芯片
四、EUV 光刻胶（EBS/ES 系列）
住友化学（Sumitomo）EBS 系列 EUV 光刻胶，7nm 节点通用，高稳定性，用于台积电 / 三星先进逻辑制程
住友化学（Sumitomo）ES 系列 EUV 光刻胶，5nm 节点高感度，低缺陷高良率，用于 GAA 结构、高端 AI 芯片
1.偏光膜（SUMIKALAN 系列）
住友化学（Sumitomo）SUMIKALAN 标准型偏光膜：高对比度、宽视角，用于 LCD / 液晶显示器面板。
住友化学（Sumitomo）SUMIKALAN 高亮度型偏光膜：提升面板亮度，用于笔记本、桌面显示器。
住友化学（Sumitomo）SUMIKALANOLED 用圆偏光膜：抗反射、低反光，用于有机 EL/OLED 显示器件。
住友化学（Sumitomo）SUMIKALAN 超薄型偏光膜（0.1mm）：薄型轻量化，用于手机、平板等便携设备。
住友化学（Sumitomo）SUMIKALAN 高耐久型偏光膜：耐温耐湿，用于车载、工业级显示面板。
2. 显示器用化学品
住友化学（Sumitomo）彩色光阻剂（DyBright 系列）：染料型配方，高亮度高色彩再现，用于彩色滤光片（CF）。
住友化学（Sumitomo）Cu-Etchant 铜蚀刻剂：针对铜配线均匀蚀刻，用于显示面板金属线路加工。
住友化学（Sumitomo）Al-Etchant 铝蚀刻剂：适配铝电极线路，用于 TFT-LCD 面板。
住友化学（Sumitomo）ITO-Etchant 氧化铟锡蚀刻剂：透明电极蚀刻，用于触摸屏、OLED 面板。
住友化学（Sumitomo）Stripper 系列剥离液：光刻胶 / 干膜剥离用，适配后段显示面板工艺。
3. 半导体用化学品
住友化学（Sumitomo）显影液 / 冲洗液系列：高纯度低颗粒，适配 i 线 / KrF/ArF 光刻胶，用于晶圆光刻后清洗。
住友化学（Sumitomo）蚀刻剂系列：用于半导体晶圆湿法蚀刻，兼容硅、氧化硅、金属层。
住友化学（Sumitomo）硬化胶剥离液：适配离子注入 / 电镀后硬化胶，用于高污染晶圆工艺。
4. 光刻胶（SUMIRESIST 系列）
住友化学（Sumitomo）PFI-55：通用 i 线正胶，0.5-1μm 成熟制程主力，分立器件 / PCB / 模拟芯片通用。
住友化学（Sumitomo）PFI-245：厚膜 i 线正胶，4-5μm，封装凸块、电镀、MEMS 专用。
住友化学（Sumitomo）PFM-300：i 线抗反射底涂专用胶，适配 BARC，提升图形精度。
住友化学（Sumitomo）PXi 系列：化学放大型 i 线厚膜胶，高分辨率低缺陷，用于先进封装 RDL/TSV。
住友化学（Sumitomo）NX 系列：i 线负性光刻胶，高对比度抗刻蚀，用于接触孔 / 通孔 / 存储隔离层。
住友化学（Sumitomo）PEK-642：通用 KrF 正胶，130-180nm 逻辑 / DRAM/Flash 量产主力。
住友化学（Sumitomo）PEK-1000：90-110nm 节点 KrF 胶，良率稳定，台积电 / 三星成熟线常用。
住友化学（Sumitomo）PEK-2000：高分辨率 KrF 胶，90-110nm 先进逻辑 / 低功耗芯片专用。
住友化学（Sumitomo）NEK 系列：KrF 负性光刻胶，高对比度抗刻蚀，用于特殊结构 / 通孔工艺。
住友化学（Sumitomo）PAR-1000：ArF 干式正胶，90-120nm 通用，对标 JSR AR2772JN，逻辑 / CIS 主力。
住友化学（Sumitomo）PAR-2000：高分辨率 ArF 干式胶，65-80nm 节点关键层图形化。
住友化学（Sumitomo）PAR-i3000：ArF 浸没式正胶，28-65nm 节点，低 LER 高良率，先进逻辑 / 高端 CIS 用。
住友化学（Sumitomo）PAR-i4000：高 NA ArF 浸没胶，14-28nm 节点，RLS 平衡优，移动 / AI 芯片用。
住友化学（Sumitomo）EBS 系列：EUV 光刻胶，7nm 节点通用，高稳定性，台积电 / 三星先进制程用。
住友化学（Sumitomo）ES 系列：EUV 高感度光刻胶，5nm 节点，低缺陷高良率，GAA 结构 / 高端 AI 芯片用。
二、能源?功能材料
1. 超级工程塑料（SUMIKASUPER LCP 系列）
住友化学（Sumitomo）SUMIKASUPER E4006：20% 玻纤增强 LCP，通用注塑级，用于连接器、精密电子部件。
住友化学（Sumitomo）SUMIKASUPER E4008：30% 玻纤增强 LCP，食品级 / 医疗级，用于医疗器械、食品容器。
住友化学（Sumitomo）SUMIKASUPER E5008L：40% 玻纤超高流动 LCP，薄壁成型，用于消费电子微型部件。
住友化学（Sumitomo）SUMIKASUPER E6006L：低翘曲高流动 LCP，用于精密连接器、接插件。
住友化学（Sumitomo）SUMIKASUPER E6807HF：高流动低翘曲 LCP，用于 5G 天线、高频电子部件。
住友化学（Sumitomo）SUMIKASUPER E7008：高耐热 LCP，汽车电子、电源模块专用。
住友化学（Sumitomo）SUMIKASUPER SR300/SR500：低摩擦耐磨 LCP，用于轴承、齿轮、运动部件。
住友化学（Sumitomo）SUMIKASUPER A130：低粘度入门级 LCP，用于微型连接器、引脚。
2. 医疗用聚烯烃
住友化学（Sumitomo）医用级聚丙烯 / 聚乙烯系列：高纯度低析出，用于输液管、注射器、医疗包装。
住友化学（Sumitomo）医用级弹性体：耐灭菌、生物相容性优，用于导管、密封件。
3. 树脂改性剂
住友化学（Sumitomo）SUMIPLOY 系列聚合物合金：高性能增韧 / 耐磨改性剂，提升塑料抗冲击、耐摩擦性能。
住友化学（Sumitomo）相容剂系列：改善不同树脂相容性，用于工程塑料共混改性。
4. 间苯二酚
住友化学（Sumitomo）高纯度间苯二酚：工业级 / 电子级，用于橡胶助剂、粘合剂、树脂合成原料。
5. 锂电池隔离膜（PERVIO 系列）
住友化学（Sumitomo）PERVIO TSP 芳纶涂覆隔膜：高耐热高安全性，用于动力电池 / 消费电子锂电池。
住友化学（Sumitomo）PERVIO 标准型隔膜：常规聚烯烃基，用于手机 / 笔记本等消费电子锂电池。
住友化学（Sumitomo）PERVIO 高安全性隔膜：耐穿刺耐收缩，用于电动汽车动力电池。
