WaferBOND HT-10.11 超薄晶圆键合材料

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一、临时键合与解键合配套材料体系

该体系与HT-10系列高度协同，形成“键合-释放-解键合”完整闭环，全方位支撑不同温度、不同工艺的晶圆加工需求，除HT-10系列外，还包含WaferBOND CR-200溶剂解键合型材料，最高耐受温度约200℃，主打中低温制程场景；WaferBOND HT-250超高耐热型材料，适配中高温特殊制程，填补差异化温度区间需求。配套释放层材料方面，BrewerBOND系列覆盖全类型解键合需求，包含BrewerBOND 305化学解键合释放层，与HT-10全系列型号完美兼容；BrewerBOND 510、BrewerBOND 530两款机械解键合释放层，适配不同机械剥离工艺；BrewerBOND 701激光解键合释放层，专门匹配HT-10.11、HT-10.12等高耐热型号；另有BrewerBOND T1100、BrewerBOND C1300两款VersaLayer系列产品，属于高温高应力多层键合系统，应对复杂多层封装制程；同时搭载ZoneBOND?低温解键合系统，专为低温感型晶圆与器件打造，最大限度保护器件结构完整性。

WaferBOND HT-10.11临时粘结材料使得使用标准半导体设备实现超薄晶圆的后端（BEOL）加工。

WaferBOND HT-10.11材料是一种有机涂层，专为MEMS和三维晶圆级封装应用的临时晶圆粘结解决方案开发。WaferBOND HT-10.11材料通过基材稀释和背面标准光刻处理，利用有效粘结及随后的热滑片、化学、机械或激光脱粘，实现厚度<75微米，实现有效粘结和支撑。这些材料专门为薄晶圆处理（TWH）、硅孔穿孔（TSV）揭示以及再分配层（RDL）制造或工艺开发，且工艺可达250°C。

1. - Brewer Science WaferBOND HT-10.10：标准通用型临时键合材料，最高耐受温度约260℃，兼容通用化学与机械解键合工艺，适用于常规晶圆减薄、FOWLP等量产制程。
2. - Brewer Science WaferBOND HT-10.11：中高温型临时键合材料，最高耐受温度约280℃，额外兼容激光解键合工艺，适用于高精密制程场景，兼顾热稳定性与解键合良率。
3. - Brewer Science WaferBOND HT-10.12：高耐热型临时键合材料，最高耐受温度达300℃，突破同类材料高温极限，适用于高温退火、金属化、厚膜工艺等严苛后段制程。
4. - Brewer Science WaferBOND HT-10.13：低应力型临时键合材料，适配300mm、450mm大尺寸及超薄晶圆加工，可有效减少晶圆翘曲与碎片风险，保障高端制程良品率。
5. - Brewer Science WaferBOND HT-10系列：高端超薄晶圆专用临时键合材料，完整型号及特性详见核心主推板块。
6. - Brewer Science WaferBOND CR-200：溶剂解键合型临时键合材料，最高耐受温度约200℃，适配中低温常规晶圆键合与溶剂解键合制程。
7. - Brewer Science WaferBOND HT-250：超高耐热型临时键合材料，最高耐受温度约250℃，适配中高温特殊晶圆加工制程。
8. - Brewer Science BrewerBOND 305：化学解键合释放层材料，完美适配WaferBOND HT-10全系列型号，保障化学解键合流程顺畅高效。
9. - Brewer Science BrewerBOND 510：机械解键合释放层材料，适配常规机械剥离类晶圆加工制程。
10. - Brewer Science BrewerBOND 530：机械解键合释放层材料，适配高强度机械解键合工艺，提升制程稳定性。
11. - Brewer Science BrewerBOND 701：激光解键合释放层材料，适配激光解键合工艺，匹配高耐热型临时键合材料使用。
12. - Brewer Science BrewerBOND T1100/C1300（VersaLayer）：高温高应力多层键合系统，适配复杂多层先进封装制程，应对高应力加工场景。
13. Brewer Science ARC 28A：光刻用抗反射涂层，适用于常规光刻制程，降低反射干扰，提升成像精度。
14. Brewer Science ARC 29A：光刻用抗反射涂层，适配多种光刻波长，改善图形均匀性。
15. Brewer Science ARC 39：抗反射涂层材料，用于光刻制程减反射，提高分辨率。
16. Brewer Science ARC 40：抗反射涂层，适用于多种光刻胶体系，稳定制程表现。
17. Brewer Science ARC 123：抗反射涂层，适配中高阶光刻制程，提升制程宽容度。
18. Brewer Science ARC 146：抗反射涂层，用于高精度光刻，降低驻波效应与反射。
19. Brewer Science ARC 168：抗反射涂层，适用于先进光刻工艺，提升图案质量与稳定性。
20. Brewer Science ARC 200：抗反射涂层，适用于半导体光刻，抑制反射，提高成像质量。
21. Brewer Science ARC 201：抗反射涂层，适配多种基材与光刻条件，制程通用性强。
22. Brewer Science ARC 202：抗反射涂层，用于微纳加工光刻，改善线宽粗糙度。
23. Brewer Science ARC 203：抗反射涂层，适用于先进光刻节点，提升制程稳定性。
24. Brewer Science ARC 204：抗反射涂层，优化光学匹配，降低光刻缺陷。
25. Brewer Science ARC 205：抗反射涂层，适用于高密度图形光刻，提升良率。
26. Brewer Science ARC 206：抗反射涂层，用于半导体前端光刻，降低反射影响。
27. Brewer Science ARC 207：抗反射涂层，适配多种曝光条件，提升工艺窗口。
28. Brewer Science ARC 208：抗反射涂层，适用于精细图形光刻，改善对比度。
29. Brewer Science ARC 209：抗反射涂层，用于晶圆光刻制程，提升成像一致性。
30. Brewer Science ARC 210：抗反射涂层，适用于先进封装与半导体光刻。
31. Brewer Science ARC 211：抗反射涂层，优化光学特性，降低驻波与散射。
32. Brewer Science ARC 212：抗反射涂层，适用于高数值孔径光刻系统。
33. Brewer Science ARC 213：抗反射涂层，提升光刻胶图形垂直度与均匀性。
34. Brewer Science ARC 214：抗反射涂层，适用于多种光刻胶匹配使用。
35. Brewer Science ARC 215：抗反射涂层，用于微米 / 纳米级光刻制程。
36. Brewer Science ARC 216：抗反射涂层，降低反射率，提升图形转移精度。
37. Brewer Science ARC 217：抗反射涂层，适用于高密度集成电路光刻。
38. Brewer Science ARC 218：抗反射涂层，优化涂布均匀性，适配大尺寸晶圆。
39. Brewer Science ARC 219：抗反射涂层，提升光刻工艺稳定性与重复性。
40. Brewer Science ARC 220：抗反射涂层，适用于先进光刻与微纳加工。
41. Brewer Science ARC 221：抗反射涂层，降低光刻缺陷，提升制程安全窗口。
42. Brewer Science ARC 222：抗反射涂层，适用于多种曝光波长与光刻方案。
43. Brewer Science ARC 223：抗反射涂层，改善光刻图形轮廓与尺寸精度。
44. Brewer Science ARC 224：抗反射涂层，适用于半导体与先进封装光刻。
45. Brewer Science ARC 225：抗反射涂层，提升显影后图形完整性。
46. Brewer Science ARC 226：抗反射涂层，降低反射干扰，提高解析能力。
47. Brewer Science ARC 227：抗反射涂层，适用于高精度光刻与小线宽制程。
48. Brewer Science ARC 228：抗反射涂层，优化光学匹配，提升制程稳健性。
49. Brewer Science ARC 229：抗反射涂层，适用于研发及量产光刻制程。
50. Brewer Science ARC 230：抗反射涂层，提升晶圆表面光刻质量。
51. Brewer Science ARC 231：抗反射涂层，适用于先进半导体制造光刻。
52. Brewer Science ARC 232：抗反射涂层，降低散射与反射，提升对比度。
53. Brewer Science ARC 233：抗反射涂层，适用于多层光刻与复杂结构。
54. Brewer Science ARC 234：抗反射涂层，提升图形均匀性与批次稳定性。
55. Brewer Science ARC 235：抗反射涂层，适用于高孔径比光刻工艺。
56. Brewer Science ARC 236：抗反射涂层，改善光刻胶与界面兼容性。
57. Brewer Science ARC 237：抗反射涂层，适用于先进光刻节点制程。
58. Brewer Science ARC 238：抗反射涂层，降低线宽粗糙度，提升精度。
59. Brewer Science ARC 239：抗反射涂层，适用于高密度芯片光刻。
60. Brewer Science ARC 240：抗反射涂层，提升曝光工艺宽容度。
61. Brewer Science ARC 241：抗反射涂层，适用于各类光刻胶配套使用。
62. Brewer Science ARC 242：抗反射涂层，降低反射率，优化成像效果。
63. Brewer Science ARC 243：抗反射涂层，适用于微机电与光电器件光刻。
64. Brewer Science ARC 244：抗反射涂层，提升光刻制程稳定性与良率。
65. Brewer Science ARC 245：抗反射涂层，适用于先进封装重布线层光刻。
66. Brewer Science ARC 246：抗反射涂层，改善图形边缘粗糙度。
67. Brewer Science ARC 247：抗反射涂层，适用于大尺寸晶圆光刻。
68. Brewer Science ARC 248：抗反射涂层，降低驻波效应，提升图形质量。
69. Brewer Science ARC 249：抗反射涂层，适用于量产型半导体光刻。
70. Brewer Science ARC 250：抗反射涂层，提升解析力与工艺窗口。
71. Brewer Science ARC 251：抗反射涂层，适用于高精度掩膜版配套光刻。
72. Brewer Science ARC 252：抗反射涂层，优化涂布与固化性能。
73. Brewer Science ARC 253：抗反射涂层，适用于先进光刻与蚀刻前处理。
74. Brewer Science ARC 254：抗反射涂层，降低反射与散射干扰。
75. Brewer Science ARC 255：抗反射涂层，提升光刻图形尺寸精准度。
76. Brewer Science ARC 256：抗反射涂层，适用于多种曝光方式。
77. Brewer Science ARC 257：抗反射涂层，改善界面性能，提升附着力。
78. Brewer Science ARC 258：抗反射涂层，适用于高稳定性量产制程。
79. Brewer Science ARC 259：抗反射涂层，降低缺陷率，提升整体良率。
80. Brewer Science ARC 260：抗反射涂层，适用于先进逻辑与存储芯片光刻。
81. Brewer Science ARC 261：抗反射涂层，提升光刻胶成像性能。
82. Brewer Science ARC 262：抗反射涂层，适用于细线条光刻制程。
83. Brewer Science ARC 263：抗反射涂层，优化光学吸收与匹配特性。
84. Brewer Science ARC 264：抗反射涂层，适用于研发与小批量试制。
85. Brewer Science ARC 265：抗反射涂层，提升制程稳定性与可靠性。
86. Brewer Science ARC 266：抗反射涂层，适用于高压 / 特殊光刻环境。
87. Brewer Science ARC 267：抗反射涂层，降低反射干扰，提高图形保真度。
88. Brewer Science ARC 268：抗反射涂层，适用于先进半导体与光电子制程。
89. Brewer Science ARC 269：抗反射涂层，提升显影效果与图形完整性。
90. Brewer Science ARC 270：抗反射涂层，适用于高密度互联光刻。
91. Brewer Science ARC 271：抗反射涂层，改善光刻工艺兼容性。
92. Brewer Science ARC 272：抗反射涂层，适用于大尺寸晶圆均匀涂布。
93. Brewer Science ARC 273：抗反射涂层，降低线宽偏差，提升精度。
94. Brewer Science ARC 274：抗反射涂层，适用于高孔径光刻系统。
95. Brewer Science ARC 275：抗反射涂层，提升批次间一致性。
96. Brewer Science ARC 276：抗反射涂层，适用于先进封装与晶圆级封装。
97. Brewer Science ARC 277：抗反射涂层，优化抗反射性能与耐热性。
98. Brewer Science ARC 278：抗反射涂层，适用于高精度微纳光刻。
99. Brewer Science ARC 279：抗反射涂层，提升光刻制程安全余量。
100. Brewer Science ARC 280：抗反射涂层，适用于各类光刻胶体系匹配。
101. Brewer Science ARC 281：抗反射涂层，降低散射，提升成像对比度。
102. Brewer Science ARC 282：抗反射涂层，适用于半导体前段 / 后段光刻。
103. Brewer Science ARC 283：抗反射涂层，改善图形垂直度与精度。
104. Brewer Science ARC 284：抗反射涂层，适用于高稳定性量产线。
105. Brewer Science ARC 285：抗反射涂层，提升光刻解析与工艺窗口。
106. Brewer Science ARC 286：抗反射涂层，适用于微小结构光刻。
107. Brewer Science ARC 287：抗反射涂层，降低反射率与界面损耗。
108. Brewer Science ARC 288：抗反射涂层，适用于先进光刻材料配套。
109. Brewer Science ARC 289：抗反射涂层，提升涂布均匀性与覆盖率。
110. Brewer Science ARC 290：抗反射涂层，适用于研发及大规模量产。
111. Brewer Science ARC 291：抗反射涂层，优化光刻图形质量。
112. Brewer Science ARC 292：抗反射涂层，适用于光电子与传感器件光刻。
113. Brewer Science ARC 293：抗反射涂层，提升制程稳健性与可靠性。
114. Brewer Science ARC 294：抗反射涂层，降低缺陷与颗粒产生。
115. Brewer Science ARC 295：抗反射涂层，适用于高密度芯片制造。
116. Brewer Science ARC 296：抗反射涂层，改善光刻胶兼容性与表现。
117. Brewer Science ARC 297：抗反射涂层，适用于先进节点光刻工艺。
118. Brewer Science ARC 298：抗反射涂层，提升图形转移精度与良率。
119. Brewer Science ARC 299：抗反射涂层，适用于高端半导体与先进封装全流程光刻。
120. Brewer Science BrewerBOND 305：化学解键合释放层材料，完美适配 WaferBOND HT-10 全系列型号，保障化学解键合流程顺畅高效。
121. Brewer Science BrewerBOND 510：机械解键合释放层材料，适配常规机械剥离类晶圆加工制程。
122. Brewer Science BrewerBOND 530：机械解键合释放层材料，适配高强度机械解键合工艺，提升制程稳定性。
123. Brewer Science BrewerBOND 701：激光解键合释放层材料，适配激光解键合工艺，匹配高耐热型临时键合材料使用。
124. Brewer Science BrewerBOND T1100/C1300 (VersaLayer)：高温高应力多层键合系统，适配复杂多层先进封装制程，应对高应力加工场景。
125. Brewer Science BrewerBOND 系列：包含 T1100/C1300 等型号，用于高温高应力多层键合与解键合，适配复杂先进封装制程。
126. Brewer Science WaferBOND 系列：包含 HT-10、CR-200、HT-250 全系列，覆盖不同温度区间晶圆临时键合，满足各类先进封装需求。
127. Brewer Science ZoneBOND 系列：低温解键合系统，适用于温度敏感型晶圆与器件，实现无损解键合，保护器件结构完整性。
128. Brewer Science Cee Model 10：专用烘焙板设备，用于晶圆材料均匀加热与固化，保证制程温度稳定。
129. Brewer Science Cee 200DBX：显影?烘焙一体化系统，集成显影与烘焙功能，提升光刻制程效率与一致性。
130. Brewer Science Cee 300：涂胶显影 Track 系统，适用于研发及小批量生产，适配多种光刻与键合材料工艺。
131. Brewer Science Cee 400：涂胶显影 Track 系统，支持高精度涂布与显影，满足中高阶制程需求。
132. Brewer Science Cee 500：涂胶显影 Track 系统，优化工艺稳定性，适用于半导体及先进封装量产线。
133. Brewer Science Cee 600：涂胶显影 Track 系统，兼容多种材料与制程，提升生产效率与良率。
134. Brewer Science Cee 700：涂胶显影 Track 系统，面向高端制程设计，支持复杂光刻与键合工艺。
135. Brewer Science Cee 800：涂胶显影 Track 系统，具备高自动化水平，适配大规模工业化量产。
136. Brewer Science Cee 900：涂胶显影 Track 系统，旗舰型高端制程设备，满足最严苛半导体制程要求。